الفهرس 
Table of contentsOnly 14 pages are availabe for public view
 |  | from | 311 |  |  |
| | | from | 311 | | |
Abstract
تم الحصول علي الهدف من هذه الدراسه وهو الحصول علي خلايا شمسيه و تكوينها باقل تكلفه باستخدام كذلك استخدام تقنيات اقل تكلفه واقل وقت في Czochralski (Cz) نوع السيليكون المستخدم الاقل تكلفه هو الاكثر استخداما Cz كذلك نري ان السيليكون المستخدم . PECVD تصنيع الخلايا الشمسيه مثل تقنيات في مجال الصناعه ويمثل حوالي 40 % من حجم انتاج الخلايا الشمسيه في العالم وهو اقل تكلفه بحوالي وهو ايضا نوع يتحمل المعالجات الحراريه عند درجات الحراره العاليه. Fz ثلاث مرات من النوع الاخر ايضا عمليه تحويل اجريت لسطح الخلايا الشمسيه لاسطح خشنه حتي تزداد امتصاصيه الضوء الساقط وتكون اكثر استفاده وكفاءه في وجود وسط قلوي وباستخدام محاليل كيميائيه اكثر نقاء وكفاءه لاتمام هذه العمليه وعمل هذه العمليه باقل تركيز ممكن واقل تكلفه وبسرعه اكبر وايضا بعمل اعداد كبيره من هي الماده الاكثر تكلفه في هذه المرحله والتي نستخدمها باقل تركيز IPA الخلايا في نفس الوقت وماده ممكن لتقليل التكلفه وهذا احد اهداف الرساله لعمليه التصنيع وحتي تكون اكثر ملاءمه في الناحيه الصناعيه. ومن المعروف ان عمليه التصنيع المباشره في خط واستمراريه للعمليات وسلاسه هو الافضل صناعيا والابسط وذلك لطول العمليه اذا تم عملها كل علي حد وقد وجد ان عمليه التباين في الادخالات في وقت اقل و بطريقه مباشره في خطوه واحده هي الافضل. وجدنا ان الشحنات التي تمسك في منطقه الاكسده تكون قليله وانها تكون اعمق داخل السيليكون. عمق الشحنات اكثر داخل السيليكون يعطي لها كفاءه اعلي واقل عمليه لرجوع الالكترونات للفجوات وزياده عمر الشحنات الموصله.